晶圆表面光刻胶残留与有机污染物可视化检测
随着半导体集成电路 (IC) 的尺寸缩小到 10 纳米以下，在晶圆检测过程中有效检测光刻胶残留物等有机污染物和缺陷变得越来越重要。光学显微镜仍是常用的检测方法，但对于有机污染而言，明视野和其他类型的照明都有其局限性。本文讨论了在半导体行业的质量控制、故障分析和研发&D 过程中，如何利用荧光显微镜有效检测晶片上的光刻胶残留物和其他有机污染物。
6 英寸晶片检测显微镜，可靠的观察微小高度差
本文介绍了一种 6 英寸晶圆检测显微镜，无论用户的技术水平如何，它都能自动进行可重复的 DIC（微分干涉对比）成像。集成电路 (IC) 芯片和半导体元件的制造需要晶圆检测，以确保不存在影响性能的缺陷。通常使用光学显微镜进行质量控制、故障分析和 R&D 检测。为了有效地观察晶圆上结构之间的微小高度差，可以使用 DIC。
无需用手接触即可安全装载晶片，进行显微镜检测
本文介绍了用于显微镜检测的自动硅晶片装载如何帮助改进微电子工艺控制和生产效率。人工搬运晶圆很可能会损坏脆弱的晶圆表面，从而增加成本，而自动化搬运则能确保更安全、更具成本效益的生产。自动晶片装载机在显微镜检测和制造方面的优势概述如下。
电池制造过程中的毛刺检测
毛刺是电池电极片边缘可能出现的缺陷，例如在制造过程中的分切环节。它们可能会因诸如短路等故障导致电池性能下降，并引发安全和可靠性问题。毛刺检测是电池生产质量控制的重要部分，对于生产具有可靠性能和寿命的电池至关重要。通过适当照明的光学显微镜可以在生产过程的关键步骤中快速可靠地对电极上的毛刺进行视觉检测。
跨行业的质量保证改进
精确是最重要的。试想一下，心脏起搏器在运行过程中发生故障，或者半导体缺陷导致关键系统崩溃。在医疗设备、电子产品和半导体等行业，误差几乎为零。质量保证（QA）不再仅仅是一项监管要求，而是一项推动业务成功和保护品牌完整性的战略优势。
生产过程中电池颗粒检测
本文介绍了如何利用光学显微镜快速、可靠且经济有效地进行电池颗粒检测与分析。
高效清洁度分析的关键因素
在汽车和电子行业，零部件上细小的污染颗粒物也可能影响产品的性能，导致产品出现故障，或使用寿命缩短。对于汽车来说，过滤系统很容易受到影响。对于电子产品来说，印刷电路板（PCB）或连接器上的污染可能会导致短路。因此，清洁度在现代制造业的质量控制中占有核心地位，特别是使用由不同供应商生产的部件时，更要重点关注清洁情况。车辆或设备的关键部件如果受到污染，整个系统就可能发生故障。因此，高效清洁度分析过程必须…
显微镜不同观察方法下的快速半导体检测
已刻蚀的晶圆和集成电路（IC）在生产过程中的半导体检测对于识别和减少缺陷非常重要。
电子产品制造截面分析
本文将讨论印刷电路板 (PCB) 和总成 (PCBA)、集成电路 (IC) 和电池组件的横截面为什么对质量控制 (QC)、故障分析 (FA) 和研发 (R&D) 有效，以及如何制备这些横截面。
