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电镀技术中的微观缺陷

如何利用光学显微镜和LIBS识别零件电镀过程中缺陷

Optical microscope image of salt contamination on an aluminum/silicon (Al/Si) surface. Credit: Gerweck GmbH, Germany. Electroplating_LIBS_on-dema.jpg

关于网络研讨会

在电镀过程中,污染、残留物或夹杂物会迅速导致产品质量显著下降,甚至导致整批产品的失败。在电子和汽车工业的生产环境中可以发现类似类型的污染或缺陷。

在本次网络研讨会上,将介绍激光诱导击穿光谱(LIBS)如何用于质量控制,以快速确定产品电镀过程中缺陷(污染)的根本原因。使用该领域的典型例子,将展示如何使用光学显微镜和LIBS相结合的二合一技术对这些样品进行研究,以对材料进行目视检测和化学分析。

网络研讨会的预告

核心知识点

  • 了解更多电子产品电镀过程中出现的典型表面缺陷
  • 了解如何使用二合一的目视检测和化学分析解决方案快速有效地分析典型缺陷或污染
  • 了解通过通过LIBS(激光诱导击穿光谱)技术来确定污染或缺陷的基本原理

观看网络研讨会

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