DM8000 M 和 DM12000 M 光学检测系统
利用 DM8000 M 和 DM12000 M 光学检测系统更深入地了解样本,从而改进产品质量决策,并节省时间。
这些检测显微镜可对半导体和晶圆等材料进行快速、可靠的检测和分析,使您能够快速进行质量控制并检测缺陷。
快速呈现结构和缺陷
检测并分析样本上的各种结构和缺陷,如划痕和污染。有一系列照明和对比方法可供选择,如明场、暗场、偏振光、微分干涉相差 (DIC)、荧光 (Fluo) 和红外 (IR),帮助您快速可靠地进行检测。利用紫外光照明模式提高分辨率。
利用倾斜照明获得更多表面信息。结合紫外光照明模式进一步增强了对比度。
利用 Plan Fluotar 物镜(20 倍、50 倍和 100 倍)的先进暗场技术,在断裂分析过程中通过更高的对比度更快地发现缺陷。


用不同的照明和对比方法采集的晶圆表面图像,在右侧图像中可以清楚地看到污染。
快速概览样本,节省时间
使用可选的 0.7 倍宏观物镜,快速揭示材料样本中的宏观缺陷和结构。宏观物镜提供约 36 毫米的视场,可快速定位和高效筛选,从而节省您的时间。
要检测高度超过 42 毫米的高大样本,显微镜可以配备一个“材料版”入射光轴。使用该轴时,对高度较低的样本进行检测将需要一个载物台插件。


刻蚀图案的晶圆的明场图像