溅射镀膜机 Leica EM ACE600

适合广泛应用领域的高真空镀膜系统

EM ACE600 溅射镀膜机装有可配置式金属处理室,十分灵活,适合广泛的应用领域。 实现工作流程目标,满足实验室需求——可在同一个制备过程中运行两个不同的溅射源,还可配置 EM ACE600 用于高级冷冻工作流程。

无论您需要……

  • 对扁平或结构化的非导电样本进行高分辨率成像
  • 增强纳米级结构(如蛋白质或 DNA 链)的对比度
  • 生成透射电镜 (TEM) 载网的薄而坚固的支撑层,或者
  • 为敏感样本提供保护层
  • 扩展冷冻应用中的系统

……使用 EM ACE600 镀膜和溅射镀膜机,皆可实现。

带冷冻传输装置的 EM ACE600 碳、电子束和溅射镀膜机
带冷冻传输装置的 EM ACE600 碳、电子束和溅射镀膜机

Sputter coating

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通过溅射镀膜获得可重现的高品质薄膜

使用 EM ACE600 高真空镀膜系统,每次运行均可始终一致地生成高品质的溅射镀膜薄膜。 使用收料即镀的自动化溅射镀膜工艺,满足先进镀膜所需的适当条件并实现可重现的结果。

可进行高达 200kX 的高放大倍率扫描电镜 (SEM) 分析,具有出色的基础真空度(<2x10-6 mbar),可为各种不同的溅射靶材仔细均衡调整工艺参数。 根据样本形态的需要调整样本距离和镀膜角度。

为进一步加强镀膜效果,可以使用 Meissner 捕集器将真空度提高到 10-7 mbar,之后再尝试对氧敏感的溅射靶材或样本材料。

不同材料的2纳米厚的细粒度溅射镀膜,沉积在 SiOx 基材上,200kX 放大倍率。
不同材料的2纳米厚的细粒度溅射镀膜,沉积在 SiOx 基材上,200kX 放大倍率。

Carbon coating

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通过碳镀膜获得可重现的高品质薄膜

EM ACE600 可以通过碳丝镀膜、碳棒镀膜或电子束蒸发生成高品质碳膜。

自从徕卡显微系统开发出应用于 EM ACE600 的独特自适应脉冲方法以来,

碳丝蒸发已成为一种广泛使用的方法。 它可生成精确、稳定、非晶态的亚纳米级厚度的薄膜,同时最大限度减少对样本的热损伤影响。 无论您需要纳米级厚度、坚固且洁净的透射电镜支撑层、扩散(保护)镀膜还是大面积均质碳层,碳丝都是适合您需求的不二之选。

对于专用应用领域,如旋转投影,可以使用电子束蒸发器。 其小光束发散功能非常适合投影镀膜,可增强纳米级结构的边缘对比度。

精确碳沉积(1 - 5纳米厚碳膜)
精确碳沉积(1 - 5纳米厚碳膜)

按需配置 EM ACE600

通过 EM ACE600 的大型可配置金属处理室,可在不破坏真空的情况下用一台镀膜机运行多个制程。 同时,将溅射头与先进的碳丝蒸发器结合使用或者选用两个溅射源,可在一次制备过程中完成多层金属镀膜。

  • 采用经过优化的带两个斜角端口和一个旋转台的双源方法,可在整个100毫米样本台上生成均匀分布的薄膜
  • 有稳定的碳丝、电子束和溅射镀膜机溅射源可供选择
  • 为您的 EM ACE600 装配辉光放电溅射功能
  • 可随时在现场升级
适用于双源的 ACE600 可配置端口。 有以下配置可供选择: 1- 碳丝蒸发 | 2- 溅射 | 3- 碳棒蒸发 | 4- 电子束蒸发
适用于双源的 ACE600 可配置端口。 有以下配置可供选择: 1- 碳丝蒸发 | 2- 溅射 | 3- 碳棒蒸发 | 4- 电子束蒸发

专注于制备过程的关键部分

使用 EM ACE600 碳镀膜和溅射镀膜机,只需按下一个按钮即可让您充满信心地完成常规样本制备。 简单可靠的工作流程和便捷的标准操作程序让您能够专注于电镜样本制备的关键部分。 您可以专注于优化工作流程,减少自己学习操作方法或培训他人使用方法的时间。

  • 通过前门安全装卸敏感样本
  • 基于工作流程的用户界面,可快速访问相关参数,全程引导式操作
  • 轻量、稳定的溅射源,方便日常操作
EM ACE600 触摸屏,通过基于工作流程的用户界面操作
EM ACE600 触摸屏,通过基于工作流程的用户界面操作

扩展至冷冻工作流程

在冷冻条件下为样本镀膜,全方位提升实验室电镜实验能力。 将样本冷冻断裂和冷冻镀膜后,通过 EM VCT500 传输系统将冷冻样本传输至扫描电镜,EM ACE600 碳镀膜和溅射镀膜机可帮助制备样本用于研究,如在生物样本原生和水合状态下的结构分析。

EM ACE600 提供:

  • 用于传输冷冻样本的接口
  • 用于低温冷冻条件下镀膜的冷冻台
  • 基本型断裂装置
装配 EM VCT500 冷冻传输系统的 EM ACE600
装配 EM VCT500 冷冻传输系统的 EM ACE600

选择优化配置

配置 EM ACE600 碳镀膜和溅射镀膜机,满足实验室日常工作需求。

有各种样本支架和样本台可供选择,例如带有多达 3 个电动轴的 3 轴样本台或专用冷却台。

可快速更换的样本台基片使 EM ACE600 成为多功能工具。

1:电动 3 轴样本台 | 2:旋转投影(LARS)样本台 | 3:旋转“手动”样本台 | 4:冷冻台
1:电动 3 轴样本台 | 2:旋转投影(LARS)样本台 | 3:旋转“手动”样本台 | 4:冷冻台

超薄碳膜

碳镀膜在电镜领域的应用十分广泛。 它需要具有导电性,但对电子束透明,并且不能具有颗粒结构。

采用自适应脉冲方法的 EM ACE600 碳丝所生成的薄膜,厚度精确、坚固并具有导电性,还可以通过烘焙法进一步减少污染。 最终,这类薄膜提供:

  • 对电子的高透明度
  • 足以承受电子轰击的强度
  • 均匀的厚度,这对于分析研究、定量成像或电子断层扫描至关重要
A:常规碳膜(15纳米碳);B:超薄碳膜(3纳米)。 轻松观察硒化镉 (CdSe) 量子片的晶格。 图片由比利时 Eva Bladt 和 Sara Bals(EMAT,安特卫普大学)采集。 提供方: Frederic Leroux 和 Jan de Weert。 样本提供方: Daniel Vanmaekelbergh,乌特勒支大学纳米材料科学研究所(Debye Institute for Nanomaterials Science, University of Utrecht)
A:常规碳膜(15纳米碳);B:超薄碳膜(3纳米)。 轻松观察硒化镉 (CdSe) 量子片的晶格。 图片由比利时 Eva Bladt 和 Sara Bals(EMAT,安特卫普大学)采集。 提供方: Frederic Leroux 和 Jan de Weert。 样本提供方: Daniel Vanmaekelbergh,乌特勒支大学纳米材料科学研究所(Debye Institute for Nanomaterials Science, University of Utrecht)

旋转投影—使纳米级结构清晰可见

以专用小角度旋转投影(LARS)设置配置 EM ACE600,可在透射电镜中对纳米级结构(如蛋白质或 DNA 链)成像。 EM ACE600 电子束源与电动 LARS 样本台将指令、低热损伤影响、薄膜沉积与优化的样本台几何结构相结合,可实现掠角入射沉积。 用细粒度铂层以小角度对 DNA 链进行投影镀膜,然后添加碳层稳定脆性结构,以便在 TEM 中进行分析。

出芽酵母(S.cerevisiae,酿酒酵母)的 DNA 复制分叉的 TEM 图片,使用 EM ACE600 电子束镀膜机通过小角度旋转投影方法获得
出芽酵母(S.cerevisiae,酿酒酵母)的 DNA 复制分叉的 TEM 图片,使用 EM ACE600 电子束镀膜机通过小角度旋转投影方法获得

为实验选择合适的工作流程

EM ACE600 有助于您在进行材料科学和生物学实验时获得高质量的结果。 工作流程包括标准透射电镜和扫描电镜样本制备、切片断层扫描 3D 工作流程、聚焦离子束扫描电镜 (FIB SEM) 等。 如需详细了解以下领域的工作流程解决方案:

  • 生命科学研究,请下载工作流程手册
  • 材料科学研究,请下载工作流程手册

Standard SEM Workflow

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标准扫描电镜工作流程

使用标准扫描电镜工作流程研究化学固定样本的表面结构。 使用 EM TP 组织处理机制备样本,然后使用 EM CPD300 对样本进行临界点干燥。 下一步是使用 EM ACE200 或 EM ACE600 对样本镀膜,然后在扫描电镜中成像。

1)自动组织处理(EM TP) |(2)自动临界点干燥(EM CPD300) |(3)碳镀膜和/或溅射镀膜(EM ACE200 / EM ACE600) |(4)在 SEM 中分析图像
1)自动组织处理(EM TP) |(2)自动临界点干燥(EM CPD300) |(3)碳镀膜和/或溅射镀膜(EM ACE200 / EM ACE600) |(4)在 SEM 中分析图像

SEM / LM Solid State Preparation

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SEM / LM 固态制备 - 宽离子束截面切片

该技术最常用于固态 SEM 样本,但也可用于 LM 研究。 需要暴露样本的特定目标区域以供观察时,必须将样本仔细切割以获取感兴趣部分的内部结构。 之后,非导电样本需要镀膜以使其适合 SEM 观察。

(1)-(3)截面切片、靶材制备、研磨(EM TXP) | (4)&(5)离子束打磨和高端抛光(EM TIX 3X 或 EM RES102) |(6)镀膜(EM ACE200 / EM ACE600) |(7)SEM 分析
(1)-(3)截面切片、靶材制备、研磨(EM TXP) | (4)&(5)离子束打磨和高端抛光(EM TIX 3X 或 EM RES102) |(6)镀膜(EM ACE200 / EM ACE600) |(7)SEM 分析

Cryo-SEM Sample Preparation and Transfer

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冷冻扫描电镜样本制备和传输—宽离子束截面切片

这种冷冻传输工作流程用于高压冷冻样本,包括硬脆的材料(例如含石英的粘土)。 从高压冷冻到使用冷锯进行机械预制备,然后进行离子束打磨,最后传输至冷冻扫描电镜,在这整个制备过程中,样本必须保持 -150°C 的温度。

(1)高压冷冻(EM ICE) |(2)-(3)截面切片与切割(EM VCM) |(4)传输(EM VCT500) |(5)离子束打磨(EM TIC 3X) |(6)传输(EM VCT500) |(7)镀膜(EM ACE600) |(8)Cryo-SEM 分析
(1)高压冷冻(EM ICE) |(2)-(3)截面切片与切割(EM VCM) |(4)传输(EM VCT500) |(5)离子束打磨(EM TIC 3X) |(6)传输(EM VCT500) |(7)镀膜(EM ACE600) |(8)Cryo-SEM 分析

SEM / LM Solid State Preparation

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SEM / LM 固态制备 - 宽离子束抛光

该技术用于大面积的固态 SEM 或 LM 样本。 必须以最高的质量水平(例如 EBSD)研究大面积(数平方厘米)样本时,样本需要先进行机械预处理(镜面抛光),最后用离子束抛光方法进行制备。

(1)和(2)表面处理和抛光(EM TXP) |(3)&(4)离子束打磨和高端抛光(EM TIC 3X 或 EM RES102) |(5)镀膜(EM ACE200/EM ACE600) |(6)SEM 分析
(1)和(2)表面处理和抛光(EM TXP) |(3)&(4)离子束打磨和高端抛光(EM TIC 3X 或 EM RES102) |(5)镀膜(EM ACE200/EM ACE600) |(6)SEM 分析

Section Tomography 3D Workflow

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切片断层扫描 3D 工作流程

通过此工作流程,您可以研究确定的三维体空间内的生物结构的组织及相互作用。 首先在室温下处理样本,然后在透射电镜载网上进行连续半薄切片。 染色后进行 TEM 成像。

(1)自动组织处理(EM TP) |(2)修整(EM TRIM2) |(3)连续切片(EM UC7) |(4)染色(EM AC20) |(5)在 TEM 中分析图像
(1)自动组织处理(EM TP) |(2)修整(EM TRIM2) |(3)连续切片(EM UC7) |(4)染色(EM AC20) |(5)在 TEM 中分析图像

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