Coatings of semi-bright nickel and bright nickel over a copper layer on ABS plastic. Photo: Atotech Spain

材料科学中的样品制备

样品制备是以高分辨率观察样品表面之上的精细纹理和结构的关键。得心应手的预制备工作流程和工具将带来制备出色的样品,缩短流程时间,并产生精确可靠的结果。

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标靶面:加快速度,质量如一

谈到材料科学,人们可能首先会想到样品制备,而质量和速度对于样品制备是不可取舍的两项要素。和其他材料处理领域一样,在从前期工作转换到精整的过程中,合理的工具切换有助于加快和更好地控制后续步骤。

可轻松瞄准和制备几乎看不见的标靶

徕卡公司的 EM TXP 系统是在样品检查前进行标靶面抛光的专用工具, 是接近感兴趣区域进行最终制备的明智选择。铣削、锯切、研磨和抛光,全部都可在 EM TXP 系统这一台仪器上完成。它对具有挑战性的样品表现出色,可轻松瞄准制备几乎看不见的标靶。内置的体视显微镜可直接实现表面精整和标靶检查。

产品列表 7

高质量表面抛光协作

如果您需要高质量表面抛光,请在机械切割和抛光后使用 EM TIC 3X 三离子束切割仪。得益于理想的预处理,您可在使用离子束进行最终制备时节省大量时间。将楔形掩膜置于非常接近标靶区域的位置,主要通过离子束铣削工艺去除机械制备步骤留下的所有残余伪影。

EM TIC 3X 切割仪可生成各种切片和平面,适用于扫描电子显微法 (SEM)、显微结构分析 (EDS、WDS、Auger、EBSD)、AFM 和入射光显微法研究。

电子显微法涂层技术

在使用 SEM 或 TEM 成像法时,陶瓷、聚合物等低导电性或非导电性样品材料需要碳涂层或金属涂层。徕卡公司推出的 EM ACE600 等多功能镀碳机可为原子级分辨率成像提供超薄碳膜。厚度均匀的导电涂层可避免电荷聚集在样品上,并提供足够的强度来抵抗电子轰击。EM ACE600 高真空镀膜机可配置用于:溅镀、碳线蒸镀、碳棒蒸镀、电子束蒸镀和辉光放电。

切片协作

如果您想要使用形状完好的块面样品制备边缘锐利的切片,使用 EM TXPEM TRIM2EM RAPID 切割仪对材料的表面质量有相当大的影响。使用徕卡公司的 EM UC7 超薄切片机,可轻松制备半薄和超薄切片,还可为 TEM、SEM、AFM 和 LM 检查制备表面非常光滑的样品。

电镜样品制备

徕卡显微系统提供全面的电镜样品制备,包括扫描电镜样品制备和透射电镜样品制备,为各领域的扫描电镜SEM和透射电镜TEM提供完善的样本制备结果。做好准备——获得更好结果!优质的制备使获得区别于尝试、成功区别于失败、优质结果区别于一般结果。

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