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Leica DM12000 M 工业显微镜 徕卡DM12000M工业显微镜

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[Translate to chinese:] Images of the same area of a processed wafer taken with standard (left) and oblique (right) brightfield illumination using a Leica compound microscope. The defect on the wafer surface is clearly more visible with oblique illumination.

显微镜不同观察方法下的快速半导体检测

已刻蚀的晶圆和集成电路(IC)在生产过程中的半导体检测对于识别和减少缺陷非常重要。
[Translate to chinese:] Wafer

如何提高微电子元件检测性能

在检查硅片或微机电系统时,你需要看更多吗?你想得到与电子显微镜相似的清晰详细的样本图像吗? 观看这个免费的网络研讨会,了解更多关于强大的成像和对比技术,可以提高您的检查性能。您将了解如何克服分辨率标准,而不需要浸油或转移到SEM,以实现您想要的检测结果。

表面计量学简介

本报告简要讨论了几种常用于评估表面形貌(也称为表面纹理或表面光洁度)的重要计量技术和标准定义。随着纳米技术、薄涂层以及电路和装置小型化的出现,表面计量学已成为一个极其重要的科学和工程领域。

应用的领域

晶圆检测显微镜

晶圆检测显微镜可帮助供应商和设备制造商在晶圆加工、集成电路封装、集成电路组装和测试中快速而精确地进行检测和分析。

工业显微镜市场

最大限度地提高正常运行时间并有效地实现目标有助于您提升效益。徕卡显微镜解决方案可以让您深入了解微小)的样品细节,以及快速可靠地分析,记录和报告结果。徕卡微系统提供广泛的解决方案和专家支持,可以帮助您满足不同的应用需求。
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